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双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：80000
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄...
桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪 参考价：80000
桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现...
分体式高真空双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：80000
分体式高真空双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点...
下置四靶磁控溅射镀膜仪 参考价：80000
下置四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜
小型台式单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：60000
小型台式单靶磁控溅射镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
粉体磁控溅射包覆机 参考价：50000
粉体磁控溅射包覆机是通过粉未在溅射腔室内的旋转，以达到粉未表面均匀包覆的效果。腔室可旋转、倾斜，能快速出料。
单靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价：50000
单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
双靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价：120000
双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验...
三靶向上磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
三靶向上磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控...
光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：200000
光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层
带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
本设备为带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
三靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
三靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控...
粉末磁控溅射镀膜仪 参考价：220000
粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上
三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：350000
三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控溅射...
桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪 参考价：120000
桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从...
卧式高真空三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
卧式高真空三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，...
高真空4英寸三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：350000
高真空4英寸三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点...
下置四靶磁控溅射镀膜仪 参考价：350000
下置四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款...
桌面型双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：120000
桌面型双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实...
桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价：120000
桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现...
分体式高真空三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
分体式高真空三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点...
高真空三靶磁控溅射镀膜仪 参考价：250000
高真空三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一...
双靶磁控溅射镀膜仪 参考价：120000
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制...
桌面型磁控溅射镀膜仪上置靶枪 参考价：120000
桌面型磁控溅射镀膜仪上置靶枪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现...
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